VARIASI PARAMETER CHEMICAL ETCHING NaOH PADA SAMPEL INGOT SILIKON POLIKRISTAL TERHADAP PERMUKAAN MIKROSTRUKTUR

Abstract

Preparasi sampel merupakan tahapan awal yang perlu dilakukan untuk proses karakterisasi morfologi ingot silicon polikristal. Salah satu tahapan proses preparasi yaitu proses chemical etching yang bertujuan untuk mengkorosikan permukaan sampel dengan mengikis batas butir sehingga dapat dilihat strukturmikronya seperti fasa, batas butir, dan dislokasi. Jenis-jenis chemical etsa yang dapat digunakan untuk karakterisasi struktur mikro dari ingot silikon polikristal diantaranya dapat menggunakan larutan HF, NaOH, secco, ataupun sopori. Berdasarkan literatur, untuk melakukan karakterisasi permukaan struktur mikro dapat menggunakan larutan NaOH. Penelitian ini mengkaji tentang pengamatan struktur mikro yang dipengaruhi oleh variasi parameter larutan NaOH sebagai bahan etsa. Variasi yang digunakan adalah konsentrasi larutan sebanyak 20% dan 10%, waktu proses etsa selama 1, 2, dan 3 menit. Tiap variasinya dilakukan proses etsa sebanyak dua kali dengan posisi sampel ingot secara vertical dan horizontal. Hasil penelitian yang diperoleh menunjukan bahwa dengan jumlah konsentrasi yang tinggi, maka waktu etsa akan semakin pendek. Variasi optimasi untuk menghasilkan struktur mikro yang terbaik yaitu dengan variasi konsentrasi larutan NaOH sebanyak 20%, waktu etsa selama 2 menit, dan posisi sampel ingot secara horizontal.

Keywords: Microstructure, Ingot, Polycrystalline, Silicon, Etching, NaOH.